时间:2021-06-01来源:全球有机硅网
全球有机硅网讯:据韩媒报道,5月25日,东进世美肯在京畿道华城巴兰的工厂举行了新光刻胶制造大楼的竣工仪式和产品交付仪式,其投资200亿韩元的新半导体光刻胶工厂全面运营。首席执行官Jun-h-hyuk表示计划在这里生产EUV光刻胶。
目前,东进世美肯正在使用IMEC的EUV曝光机来进行EUV光刻胶的开发。EUV光刻胶是EUV流程(即下一代半导体制造)中使用的核心材料,由JSR、Shin-Etsu和TOK等日本公司主导。据东进世美肯表示,公司有信心能在EUV光刻胶开发方面取得成功,并计划在新工厂进行EUV光刻胶的生产。东进世美肯首席执行官 Lee表示,“目前EUV光刻胶进展顺利。”

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