时间:2026-09-22来源:全球有机硅网
全球有机硅网9月22日讯:9月16日,上海芯刻微公司年产30500吨集成电路关键工艺材料项目在上海化工区开工。该项目是今年上海市重大工程项目,占地约104亩,总投资10.5亿元,年产能30500吨集成电路关键工艺材料,计划2028年竣工投产。
项目最初于2023年2月立项,原规划总投资约5.8亿元。2026年8月,上海新阳董事会审议通过产能布局调整及追加投资议案,将总投资上调至10.5亿元,资金来源为公司自有及自筹资金。调整背景是全球半导体产业持续上行、国内晶圆代工新建产能加速投放,公司订单量持续增长,需优化产线布局以最大化盘活现有产能。
产能结构方面,项目规划了五大产品系列:I线、KrF和ArF干法/湿法光刻胶系列产品500吨/年;光刻胶稀释剂系列产品5000吨/年(原计划10000吨,下调一半);高选择比氮化钛刻蚀液系列产品5000吨/年;干法蚀刻清洗液系列产品15000吨/年;新增芯片铜互联电镀液产品5000吨/年。产能重心明确向"电镀液+蚀刻/清洗液"方向倾斜,这两类产品正是上海新阳当下国产替代增速最快的品类。


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